在集成電路、分立器件和其他半導體產品中，半導體材料是半導體產業鏈上游環節的重要組成部分，起著關鍵作用。在半導體相關基礎設施建設周期長、技術要求高的情況下，企業必須制定一套長遠的策略，以建立良好的設計和制造能力。某些細分領域的公司競相開發新工藝，逐鹿半導體行業市場。要推動數字化革命，就必須有更強大的計算和存儲能力，換句話說，就是芯片的制造，而芯片制造的基礎就是采用更高的水質，超純水已成為企業競爭的制勝法寶。

　　半導體工業對清潔水的電導率、離子含量、TOC和顆粒物的要求越來越嚴格。由于超純水在許多指標上對半導體的要求很高，因此半導體行業的超純水與其他行業的用水要求不同。半導體行業對超純水有極其嚴格的水質要求。

　　半導體工業是超純水應用的主要產業之一，在半導體加工過程中，對水質要求很高，不含任何離子雜質。半導體超純水設備可以有效去除水中雜質，保證設備出水水質。萊特萊德采用雙反+EDI+Huncotte系統組合工藝，出水可達18.2mΩ·cm。

　　反滲透系統采用反滲透原理，主要去除溶解鹽、有機物、膠體、高分子等，降低水質離子含量。EDI是結合離子交換膜技術和離子電遷移技術的純水制造技術。它不需要酸堿再生，是一種新的脫鹽方法。EDI無需回收化學品，運行成本低，EDI超純水系統自動化程度高，可實現連續運行，出水水質良好穩定，出水電阻率高≥ 15mΩ·cm。Huncotte系統用于高純水處理系統的末端凈化器。可將水中離子含量降至ppb級，出水電阻率可達18.2mΩ·cm，為半導體帶來更好的性能優勢。

　　萊特萊德經過多年實踐，同時結合膜分離技術，采用了反滲透和離子交換系統(或EDI)相結合的方法制備超純水，與傳統方法相比，具有運行費用低(離子交換器的再生周期大大延長)，運行可靠。萊特萊德超純水設備出水水質符合美國ASTM D5127電子及半導體業用純水水質TypeE-1.2，高于中國國家電子級超純水標準GBT11446.1-1997EW-Ⅰ標準。從研發設計、設備制造，到工程施工、運營維護，萊特萊德都秉承"科學創新，以人為本，客戶至上"的經營服務理念，為客戶提供高質量水處理設備。

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　　編輯：虞美人 技術：米